Intel está redefiniendo el futuro de los semiconductores
Las máquinas de litografía ultravioleta extrema (EUV) son colosos tecnológicos, comparables en tamaño a un autobús escolar, y representan el pináculo de la precisión en la fabricación de semiconductores. La empresa holandesa ASML está a la vanguardia de esta tecnología y es el único fabricante del mundo de estas máquinas cruciales para grabar patrones extremadamente finos en obleas de silicio.
Estos patrones, más delgados que un cabello humano, son esenciales a medida que los transistores en chip se vuelven más pequeños y más numerosos, llegando a alcanzar miles de millones en un solo chip.
La última generación de máquina EUV, llamada High-NA EUVes una hazaña de ingeniería diseñada para desarrollo de chips utilizando nodos de proceso de 2 nm y menos.
Intel fue la primera empresa en invertir en esto Máquina de 400 millones de dólaresplanificando su uso para la producción de chips según su nodo de proceso 18A (1,8 nm), marcando así un paso importante para recuperar el liderazgo en tecnologías de proceso, frente a sus competidores TSMC y Samsung Foundry.
No se puede subestimar la importancia de esta tecnología. La reducción del tamaño de las características del chip, vinculada al número del nodo de proceso, permite aumentar significativamente el número de transistores en un chip. Esto da como resultado un aumento en la potencia y la eficiencia energética de los componentes. Por ejemplo, el SoC Bionic A13 de 7 nm utilizado en el iPhone 11 contenía 8.500 millones de transistores, mientras que el SoC A17 Pro de 3 nm del iPhone 15 Pro de 2023 contiene 19 mil millones.
Una máquina muy demandada
La adquisición de la máquina por parte de Intel Twinscan EXE: 5000 High-NA EUV de ASML, entregado en 250 cajas separadas, marca un hito importante. La instalación de esta unidad es un proyecto monumental que requiere 6 meses de trabajo colaborativo entre los ingenieros de ASML e Intel. Esta máquina, que ofrece una resolución de impresión de 8 nm (una mejora notable con respecto a los 13 nm de las máquinas EUV Low-NA actuales), promete revolucionar la densidad de transistores, permitiendo la producción de transistores hasta 1,7 veces más pequeños.
ASML dijo que ha recibido entre 10 y 20 pedidos para su máquina High-NA EUV, de gigantes de la industria como TSMC, Samsung Foundry y SK Hynix. Esto resalta la importancia crítica y el gran interés en esta tecnología avanzada, que tiene el potencial de definir el futuro de la industria de los semiconductores.